Vakuumtrocknung
Die Vakuumumgebung mit kleinem Hohlraum eignet sich zum Trocknen der Probe und des Arbeitsplatzes.
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Tischgerät
ZKCO-2 Tisch-Vakuumtrockenschrank
Kleine Vakuumtrockenkammer für Muster und den Einsatz am Arbeitsplatz.
Highlights
Optionen für Pumpenteams
Standard- und Hochvakuumkonfigurationen können prozessbasiert sein.
Präzise Temperaturregelung
Strahlungs-/Heizplatten etc. werden modellweise konfiguriert.
Numerisch
Sie können Stickstoff und Entladelogik je nach Bedarf konfigurieren.
Überblick
Die Vakuumöfen der Baureihe ZKCO eignen sich für Vakuumtrocknung, Entgasung und präzise Wärmebehandlung; Hochvakuum-Pumpstände und Stickstoffspülung lassen sich prozessabhängig konfigurieren.
Kenndaten
TemperaturbereichRaumtemperatur +15℃ bis 200℃
Standardvakuum100Pa
Sondervakuum1.01×10⁻³Pa bis 1.01×10⁻⁹Pa
HeizartStrahlungsheizung / Heizplatte
VakuumsteuerungManuelles oder PLC-gesteuertes Vakuumventil und Druckentlastungsventil
StromversorgungAC380V dreiphasig 50Hz (nach Bedarf konfigurierbar)
Prozess / Branche
- Halbleiter
- Elektronisches Element
- Vakuumtrocknung
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